石英玻璃在半導體工業設備上，使用溫度經常在1000℃到1300℃之高溫狀態，在此種狀態下由于附著不純物導致失透現象發生，失透之部分為石英之晶質化，晶質化之變態點為275℃，當石英玻璃自高溫降自此變態溫度時，表面失透之晶質化部分與石英玻璃本身高溫之α相與低溫之β相間膨脹系數不同在急速冷卻下產生不透明之剝離狀更嚴重時會造成破裂現象產生。
為使石英制品能使用更久，就必須注意防止造成石英失透產生的原因，而造成失透的污染源就屬堿金屬、堿土金屬、汗水、口水、油污、塵?！鹊?。
且0.1mg/cm2l}k就會造成數十倍或數百倍的失透量。因此，防止這些污染源附著在石英表面上除了不直接用空手去拿石英外，使用在高溫作業之前必先做清洗之工作以確保石英表面之潔凈度。一般石英之洗凈須要一些程序首先用純水先沖洗表面，再置入酸洗槽內浸泡一些時間，取出后再用純水沖洗后晾干。
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